Veeco 是全球研究和行業原子層沉積 (ALD) 系統的先進供應商，提供可訪問、經濟實惠并具有原子量級準確性的綜合服務和多功能交鑰匙系統。薄膜沉積是我們的專長。我們的 Savannah? 系列薄膜沉積工具展示了這些能力。
Savannah? 已成為全球大學參與原子層沉積 (ALD) 并尋找經濟實惠且穩健平臺的研究人員的首選系統。在過去十年中，我們已經交付了數百個此類系統。Savannah? 對前體的高效使用和節能功能大幅降低了操作薄膜沉積系統的成本。
Savannah? 配備高速氣動脈沖閥，可實現我們獨特的 Exposure Mode?，用于超高縱橫比基質的薄膜沉積。這種經驗證的精密薄膜涂層方法可用于沉積橫向比大于 2000：1 的基質上的保形、均勻薄膜。Savannah? 有三種配置：S100、S200 和 S300。Savannah? 能夠保持不同尺寸的基質（S300 高達 300mm）。Savannah? 薄膜沉積系統配備加熱前體線和增加 很多 6 條線的選項。Savannah? 能夠處理氣體、液體或固體前體。
| 基質尺寸 | Savannah S100： 很多 100 mm Savannah? S200： 很多 200 mm Savannah? S300： 很多 300 mm |
| 尺寸（寬 x 深 x 高） | Savannah S100：585 x 560 x 980 毫米 Savannah? S200：585 x 560 x 980 毫米 Savannah? S300：686 x 560 x 980 毫米 |
| 柜 | 帶有可拆卸面板和可鎖定前體門的白色粉末涂層的鋼板 |
| 操作模式 | Continuous Mode?（高速）或 Exposure Mode?（超高縱橫比） |
| 功率 | 115 VAC 或 220 VAC，1500 W（不包括泵） |
| 控制 | LabView?，Windows? 7，Lenovo 筆記本電腦，USB 控制 |
| 很大基質溫度 | S100：RT – 400 °C S200：RT – 350 °C S300：RT – 350 °C |
| 沉積均勻性 | （Al2O3) < 1% (1σ) |
| 周期時間 | 每周期 <2 秒（AL2O3在 200 °C 下） |
| 真空泵 | Alcatel 2021C2 – 14.6 CFM |
| 兼容性 | 潔凈室級別 100 兼容 |
| 合規性 | CE、TUV、FCC |
| 前體輸送系統，端口 | 2 線標準， 很多 6 條線可用 每條線都適合固體、液體和氣體前體 線可獨立加熱至 200 °C |
| 前體輸送系統，閥門 | 行業標準高速原子層沉積 (ALD) 閥，響應時間 10 毫秒 |
| 前體氣瓶 | 獨立加熱 50 ml 不銹鋼氣瓶，更大氣瓶可選 |
| 承載器/排氣氣體 | N2質量流量控制，100 SCCM |
| 選項 | 低蒸汽壓力輸送 (LVPD) 系統 臭氧發生器 用于晶片盒或 3D 物體的圓頂蓋 手套箱接口 原位橢圓偏振術 原位石英晶體微平衡 (QCM) 自組裝單分子膜 (SAM) 顆粒涂層 |
